俄歇電子能譜（AES）具有很高的表面靈敏度，其檢測深度約為3-10原子單層（0.4-5nm），檢測極限為10-3原子濃度，空間分辨率可達到4nm，可以用于分析除氫和氦以外（Li-U）元素的定性、定量分析，廣泛應用于金屬材料、半導體材料、納米材料的表面吸附和反應，表面擴散，薄膜厚度分析，界面擴散和結構，表面偏析，化學態分析，失效分析，材料缺陷，摩擦潤滑，催化劑方面分析。

清華大學分析中心現有一臺納米掃描俄歇系統PHI700，為了促進本儀器更好服務于校內用戶，中心開展俄歇電子能譜制樣和數據分析系列培訓，本系列培訓免費，歡迎校內相關用戶積極報名參加。

報名方式：請發送郵件至yanglp@mail.tsinghua.edu.cn，請注明單位、導師、姓名。

聯系人：楊立平，010-62783586